Melhore as temperaturas da superfície e os gradientes térmicos enquanto reduz as restrições de tempo
83%
diminuição de ΔT demonstrada (de 13,8 para 2,3 mK)
5 x
melhoria de estabilização demonstrada
Otimize o gerenciamento térmico de equipamentos semicondutores
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Responda aos desafios relacionados à eficiência térmica
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